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[摘要]介紹半導體潔凈室溫濕度控制流程,分析潔凈室溫濕度控制方法.
溫濕度PID模糊控制,引言,隨著半導體生產(chǎn)技術(shù)的發(fā)展,更加精密,整合度更高是行業(yè)發(fā)展的趨勢.
目前,制造技術(shù)進入亞納米時代,線寬在30-180支納米之間,對生產(chǎn)設(shè)備的精度要求越來越嚴格,除了設(shè)備本身的技術(shù)水平需要滿足生產(chǎn)要求外,其生產(chǎn)環(huán)境潔凈室的各項指標也必須嚴格控制.其中溫濕度控制是重點,其控制效果直接影響生產(chǎn)的優(yōu)良率.目前,半導體潔凈室對溫濕度的控制范圍通常為:溫度22/-0.5℃,濕度45/-3%RH.本文通過對現(xiàn)有潔凈室溫濕度控制系統(tǒng)的研究,引入模糊控制,提高溫濕度控制的實際效果.
含濕量不變的過程,即絕對濕度不變的過程,濕氣通過盤管加熱,溫度上升,相對濕度下降,相反,冷卻過程中,溫度下降,相對濕度上升,溫度和相對濕度是兩個方向的控制量,溫度和濕度同時向同一趨勢變化,簡單地通過加熱/冷卻過程是不能實現(xiàn)的.冷卻除濕過程是濕空氣冷卻飽和后繼續(xù)冷卻的過程,濕空氣通過冷卻盤管結(jié)露分析水滴,降低絕對濕度,發(fā)揮除濕的作用.因此,我們可以將空氣處理過程分為四個過程:加熱、加濕、降溫和除濕.
圖1中,橫坐標為含濕量,即每公斤空氣中含有的水蒸量,縱坐標為攝氏度溫度.
根據(jù)目標狀態(tài),絕對濕度線和目標溫度線可分為Zone1、Zone2、Zone3、Zone4四個控制區(qū).
為了達到目標的溫濕度控制點,其對應的溫濕度控制區(qū)域處理過程在Zonet1的范圍內(nèi),首先降溫除濕后再加熱范圍內(nèi),先降溫再加濕的范圍內(nèi),先加熱再加濕的范圍內(nèi),首先冷卻濕氣后再加熱。
定義:d-控制對象的濕度,t-控制對象的溫度,
一般來說,設(shè)定值溫度為2/-0.5℃,濕度為45/-3%RH,Zone1和Zone3的情況較多,需要降溫除濕后加熱或加熱,從溫室和濕度處理的基本流程和常見問題,潔凈室的濕度處理的基本流程,半導體潔凈室的現(xiàn)場通常采用新風空調(diào)箱進入AirUnit,MAU)的潔凈度由于整個潔凈室內(nèi)充滿了各種各樣的生產(chǎn)機械,這些機械持續(xù)運轉(zhuǎn),產(chǎn)生了大量的熱量,這些熱量通過回風通道內(nèi)的干盤管DCC降溫被帶走,達到了長期穩(wěn)定的溫濕度環(huán)境。
基本循環(huán)如圖2所示.
最重要的是新風空調(diào)箱和干線圈新風空調(diào)箱不僅要保證外部大氣通過中學、中學和高效過濾器,過濾空氣中的粉塵粒子,還要根據(jù)潔凈室內(nèi)的溫濕度調(diào)整吹出口的溫濕度,保證送入的新風在規(guī)定的溫濕度范圍內(nèi),干盤管根據(jù)潔凈室設(shè)置的溫濕度傳感器測量的值調(diào)整干盤管冷水閥的開度,調(diào)節(jié)回風和送風混合的溫濕度,保證滿足半導體技術(shù)的溫濕度需求,各工藝工藝設(shè)備發(fā)熱量大不相同,潔凈室內(nèi)機臺發(fā)熱量分布不均勻。
例如,爐管機臺的發(fā)熱量比其他設(shè)備大得多(基本上在3~5倍之間),因此必須在潔凈室內(nèi)用干盤管DC帶走這些熱量,通常要求同一工序的氣流通過同一組DCC,在建筑確定的情況下,工序的分布必須垂直于回風道,如果條件允許,最好將不同工藝的區(qū)域分開,以避免金屬顆粒污染,提高溫濕度控制的穩(wěn)定性,通常,潔凈室的溫濕度控制在2、3/-0.5℃,45%-3%RH,MAU的送風溫度基本控制在21℃-21.中央空調(diào)使用中熱泵故障診斷及修理措施5℃,與循環(huán)風混合后,F(xiàn)FU的出風口的溫度控制在22℃,通過工作水平后溫度再次上升2.2溫濕度控制中的常見問題,在MAU下降溫濕度處理過程中,為了解決除濕問題,通常采用濕度優(yōu)先的方法,冷水閥主要用于除濕,同時溫度下降,通過熱水閥的再熱,溫濕度達到要求的值,這種做法可以滿足設(shè)計要求,但在相當多的情況下,冷熱水閥抵消了能源,浪費了能源。
另外,進入潔凈室的新風溫度過高的話,整個潔凈室的熱負荷會變大,DCC的開放度會變大,抵消新鮮空氣帶來的熱負荷的進入潔凈室的新鮮空氣溫度過低的話,DCC的開放度為零的話,就不能滿足環(huán)境溫度的要求.
據(jù)統(tǒng)計,空調(diào)系統(tǒng)的能源消耗占半導體工廠整體能源消耗的30%-35%,因此優(yōu)化空調(diào)設(shè)備,選擇合理的溫濕度設(shè)定值,凈室整體溫濕度控制的穩(wěn)定性和節(jié)能具有重要意義,實現(xiàn)了溫濕度控制系統(tǒng),基本上,潔凈室的溫濕度要求為22/-0.5℃,45%th/-3%RH,當然根據(jù)生產(chǎn)技術(shù)的需要,對溫濕度的要求也不同.新風空調(diào)箱的溫濕度控制,新風空調(diào)箱的基本結(jié)構(gòu),新風空調(diào)箱的基本結(jié)構(gòu)如圖3所示,其處理流程如下:空氣過濾——包括初效、中效、高效三個部分的溫度處理——包括預熱盤管、一次表冷盤管、再熱盤管.3.1.2溫度處理過程,預熱盤管的作用是預熱外氣外部氣溫低,接近零度時,為了防止盤管在氣溫低于零度時凍結(jié),需要加熱外部氣體,通常加熱到12℃.控制供氣溫度時,將供氣溫度與其設(shè)定值進行比較,通過PIDT控制算法獲得計算值,根據(jù)該計算值決定表冷盤管和再熱盤管閥的開度大小。
其控制流程如圖4所示.
在整個PID控制環(huán)節(jié)中引入分程控制器模型,如圖5所示,將PID控制算法分為兩部分,48%和52%,同時,冷熱水切換的邊界為48%-52%,設(shè)置死區(qū),即外氣溫度與供氣溫度設(shè)定值相當接近時,熱水閥和冷水閥處于關(guān)閉(閥開度為0)的狀態(tài),冷熱水處于臨界狀態(tài)時不斷切換,加快執(zhí)行機構(gòu)的損壞的濕度處理過程,為了避免與溫度的耦合關(guān)系,新風出口濕度的設(shè)定值通常不以相對濕度為控制值,而是通過與溫度的設(shè)定值綜合計算獲得絕對濕度,以露點溫度和濕度為基礎(chǔ)本文以露點溫度為例,將計算得到的露點溫度設(shè)定值作為MAU整體出口濕度的設(shè)定值。
根據(jù)送風露點溫度和露點溫度設(shè)定值對比,通過PIDTC算法,得出計算值,根據(jù)計算值決定表冷閥和加濕閥的開度大小,其控制流程與溫度控制相似,同時引入分離控制,在臨界狀態(tài)下不斷切換加濕和除濕、潔凈室溫濕度控制,潔凈室溫度控制,潔凈室內(nèi)溫度PID控制流程如圖6所示,采用基本的PID控制,在潔凈室自身的大空間中產(chǎn)生大慣性、大時滯性,在設(shè)置PID參數(shù)時通常設(shè)置為零,防止系統(tǒng)節(jié)約.
潔凈室溫度主要由DCC調(diào)節(jié),但同時受新風送風溫度濕度的影響,給定過高的溫度,進入潔凈室和循環(huán)風混合后,DCC需要更多的冷卻量,這直接導致能源浪費,給定過低的溫度,進入潔凈室和循環(huán)風混合后,直新風空調(diào)箱溫濕度設(shè)定值控制,新風空調(diào)箱送風溫度設(shè)定值的選擇比較重要,必須能夠最好地滿足當前潔凈室內(nèi)溫度的需求.
給定溫度過高,進入潔凈室和循環(huán)風混合后,DCC需要更大的冷卻量,直接導致能源浪費,給定溫度過低,進入潔凈室和循環(huán)風混合后,即使DCC的開度為零,整個潔凈室的溫度也會過低因此,MAU新風送風溫度設(shè)定值的選擇非常重要,必須確保系統(tǒng)在控制范圍內(nèi),盡量達到節(jié)能的目的.
在此,我們將引入模糊控制的思想,通過對潔凈室溫度偏差和偏差變化率的模糊規(guī)則變化,得出新風空調(diào)箱送風溫度設(shè)定值。
整個程序的運行過程如圖7所示,程序運行后,將獲得新的系統(tǒng)中的模糊控制器是兩個輸入一個輸出,其輸入量是系統(tǒng)的偏差e和偏差變化率ec,這兩個量有確定的數(shù)值,兩個明確的量,整個模糊控制器由模糊、模糊規(guī)則庫、模糊推理和模糊四個部分組成.。